微波等离子去胶机是现代电子制造领域中不可少的重要设备，主要用于半导体芯片生产中的光刻胶去除、表面预处理和减薄等工序。配置磁流体旋转架，使微波等离子体更加均匀的输出。这种技术的运用不仅提高了去胶效果，而且能够做到无损硅片与其他金属器件的处理。...

真空泵是利用等离子体技术进行清洗的设备，它通常包含一个真空泵用于产生真空环境，从而实现清洗过程。其工作原理主要分为以下几个步骤：抽气。当 启动时，真空泵开始工作，通过抽气将工作室内的气体抽出，从而建立起真空环境。真空泵...

高功率 是一种使用等离子技术进行清洗的设备，它能够有效地去除污垢、油渍和其他污染物，同时不会损坏物体表面。通过产生等离子体，并利用其高能量来清洗表面。等离子体是一种高温高能量的气体，能够有效地分解和去除各种有机和无机污染物。通常使...

PDC-002 适用于各种材料的表面处理和清洗，特别适用于半导体、光电子、显示器等行业的清洗作业。它采用等离子技术，可以高效、快速地清洗表面上的污垢、氧化物、有机物等杂质，使物体表面恢复原有的光洁度和光泽度。利用等离子体在高频电场...

气体流量混合器可以将两个或多个气体流量混合在一起的装置，通过控制气体的流动速度和方向，使两个或多个气体在一定比例下混合在一起，通常由管道、阀门和传感器组成。管道是气体流动的通道，通过管道的形状和大小可以调节气体的流动速度。阀门用于控制不同气...

气体流量混合器(GasFlowMixer)是用于将多种不同流量和浓度的气体混合成所需流量和浓度的气体的装置，主要由以下几个部分构成：1.气体进口：用于将多种不同流量和浓度的气体输入混合器。通常每种气体都有一个独立的进口管道。2.流量调节阀：...

光学接触角测量仪是种常用的实验仪器，用于测量固体与液体或气体之间的接触角。接触角是液体在固体表面上形成的一个角度，它反映了固体表面与液体之间的亲疏程度，是表征液体与固体之间相互作用性质的重要参数。光学接触角测量仪利用了折射定律和干涉原理来测...

薄膜反射仪是用于测量薄膜厚度和折射率的仪器。它基于薄膜在光的入射和反射过程中的干涉现象，通过测量光的反射特性来确定薄膜的厚度和折射率。主要由光源、偏振器、样品盒、接受器和检测系统等部分组成。光源部分通常采用单色激光或白光，发出稳定的光波。激...

在现代科技发展的时代，基本型 作为一种环保的清洗设备，被广泛应用于各行各业。基本型 是利用等离子体在高频电场中产生的高温、高压气体环境中进行清洗的设备。其工作原理主要包括三个步骤：通过加热和压缩，将气体转化为等离子体；其...

Harrick 是用于清洗实验室玻璃仪器和衬底表面的设备，其原理是利用等离子体对样品表面进行清洗和去除污染物。等离子体是物质中电离产生的电子、离子和中性粒子的混合态，具有高能量和高反应性。通过建立一个含有气体的高频电场，通过放电产...