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    等离子刻蚀ICP基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触,从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而隔绝外部湿气,防止反应室内可能发生的腐蚀。

    更新时间:2023-02-17型号:Minilock-Phantom III ICP浏览量:1601
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