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  • NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD
    NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD

    NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:919
  • NMC-3000 PAMOCVD系统
    NMC-3000 PAMOCVD系统

    NMC-3000 PAMOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:988
  • NMC-4000(M)PAMOCVD系统
    NMC-4000(M)PAMOCVD系统

    NMC-4000(M)PAMOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

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  • NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统
    NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统

    NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

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