匀胶旋涂机的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。匀胶旋涂机机身采用全工程塑料制作，...

Harrick 采用电感耦合高密度等离子体(ICP)，能快速去除晶圆上之残留光阻(光刻胶)，达到晶圆表面洁净，Harrick 具有蚀刻率高，无电极污染，离子能量低，不损伤基板等优点。Harrick 的结构组成，...

匀胶旋涂机工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶旋涂机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不...

微波等离子去胶机概述：Q系列 是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理...

PDC-002 是一种小型化、超清洗设备。该款等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。这款等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体...

分大气压的和真空的两大类，大气的又分为带状 和电晕机两种，真空 在加入腐蚀性气体后，具备蚀刻能力，通常蚀刻胶水和电气走线，应用在PCB及芯片行业。 是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗...

扩展型 采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清...

采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度...

采用气体作为清洗介质，能够有效地避免液体清洗介质对清洗物产生的二次污染。外接的真空泵，清洗腔中等离子体冲刷被洗物的表面，短时间就能够将有机污染物*清洗掉，于此同时，污染物还被真空泵抽走，这样就达到了清洗的目的。在特定的环境中，可...