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    磁控溅射系统

    简要描述：GSC-1000磁控溅射系统概述：
    带有水冷或者加热（高可加热到700度）功能，大到6“旋转平台，大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    产品型号： GSC-1000

    所属分类：磁控溅射系统

    更新时间：2019-01-15

    厂商性质：生产厂家

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    详情介绍

    GSC-1000磁控溅射系统

    GSC-1000磁控溅射系统概述：

    带有水冷或者加热(高可加热到700度)功能，大到6"旋转平台，大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    产品特点：

    • 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

    • 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

    • 1KW DC直流电源

    • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

    • 带观察视窗的腔门易于上下载片

    • 基于LabView软件的PC计算机控制

    • 带密码保护功能的多级访问控制

    • *的安全联锁功能

      选配项：
      Thickness Monitor 膜厚监测

      应 用：

      • SEM应用

      • 溅射金属，大到6"的晶圆片



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