NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机

简要描述：NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机：NANO-MASTER 离子束清洗抛光-磁控溅射镀膜系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。

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所属分类：离子束刻蚀溅射镀膜一体机

更新时间：2017-03-03

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光学元件原子级清洗镀膜系统

NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机概述：NANO-MASTER 离子束清洗抛光-磁控溅射镀膜系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。

NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机应用

Optical Coatings光学涂层
Sputtering溅射
IBAD IBAD离子束辅助沉积
Ion Beam Etching Cleaning离子束刻蚀清洗
Ion Beam Assisted Reactive Etching离子束辅助反应刻蚀
Infrared Coatings红外涂层
Surface Treatment表面处理

产品特点:

RF Biasable Platen RF射频偏压样品台
Thickness Monitor膜厚监测仪
5x10-7 Torr Base Pressure极限真空5x10-7Torr
High Accuracy and Repeatability高精度及高重复性
High Quality Films高品质膜层
Atomic Level Clean Surfaces原子级的洁净表面
Atomic Cleaning and Polishing原子级清洗和抛光
PC Controlled with LabVIEW通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
Automatic Load/Unload自动上下载片
Automatic Transfer Between Chambers两个腔体之间自动传送
Recipe Driven, Password Protected菜单驱动，4级密码访问保护
Safety Interlocks完整的安全联锁
46”D x 44”W Footprint占地面积46”D x 44”W

选配项:

Sputter Down/Up向下/向上溅射
Co-Sputtering共溅射
DC, RF and Pulsed Power Supplies DC，RF以及脉冲电源
Ion Beam Assisted Deposition离子束辅助沉积
E-Beam Sources电子束源
Plasma Sources等离子源

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