Harrick 具有高能量和高反应性

　　Harrick 是用于清洗实验室玻璃仪器和衬底表面的设备，其原理是利用等离子体对样品表面进行清洗和去除污染物。等离子体是物质中电离产生的电子、离子和中性粒子的混合态，具有高能量和高反应性。通过建立一个含有气体的高频电场，通过放电产生等离子体。
 

　　首先，样品被放置在清洗室中，并用夹具固定。清洗室内充满了一种气体，通常是氧气或惰性气体(如氮气或氩气)。当高频电源开始工作时，产生的电场激活气体分子，使其发生电离和激发。这些电子、离子和激发态分子以高速运动，并与样品表面碰撞。
 

　　碰撞时，等离子体中的电子和离子会与样品表面的污染物发生反应，使其氧化或还原。这些氧化或还原反应使污染物分解为无害的气体或可溶的化合物。同时，等离子体中的能量也能够去除表面的有机物和油脂。
 

　　此外， 还具有喷射清洗的功能。通过喷嘴，气体被喷射到样品表面，产生冲击力和剥离作用。这样，即使是较难附着的污垢也能够被清洗掉。
 

　　随着清洗的进行，污染物和气体会被抽出清洗室，以保持清洗室内的气体质量。一般情况下，清洗室还配备了一个真空泵来协助抽出废气。

  

　　Harrick 的应用领域包括但不限于：
 

　　1. 可用于清洗半导体材料表面，去除杂质和有机物，提高半导体器件的性能和可靠性。
 

　　2. 可用于清洗薄膜涂层的基片，去除表面污染物和氧化物，提高薄膜的附着力和质量。
 

　　3. 可用于清洗材料的表面，去除表面污染物和有机物，准备干净的材料样品，用于研究材料的物理特性和化学反应。
 

　　4. 可用于清洗生物材料的表面，去除细菌和污染物，准备干净的样品，用于生物医学研究和生物传感器的制备。
 

　　5. 可用于清洗光学元件的表面，去除灰尘、脏物和有机污染物，提高光学元件的透明度和性能。